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                    AMD將借北極星獨立顯卡縮小與NVIDIA份額差距

                    信息來源 : 網絡 | 發布時間 : 2016-05-06 14:06 | 瀏覽次數 : 92

                    ?全球半導體微影技術領導廠商艾司摩爾(ASML)20日宣布,在臺積電、英特爾及三星三大晶圓廠力挺下,最先進的極紫外光(EUV)已連續四周平均妥善率逾八成,本季底前將完成三臺最新的EUV系統出貨。


                    ??EUV堪稱半導體設備發展以來最昂貴的設備,一臺售價高達9,000 萬歐元(約新臺幣36億元),這項設備也是半導體產業向更先進制程發展最關鍵設備,因此發展進度,一直各界關注焦點。


                    ??臺積電共同執行長暨劉德音表示,臺積電本季將會再增購一臺EUV設備,不過臺積電將會于5奈米制程才會導入生產制程,顯示EUV的輸出率,目前仍處于試驗階段。


                    ??不過,ASML總裁暨執行長溫彼得(Peter Wennink)昨天在公布第1季財報后,也針對EUV進展,公布重大突破。


                    ??他強調,ASML的目標是在今年持續強化EUV系統的生產力和妥善率,并計畫在今將機臺生產力提升到每天曝光1,500片晶圓。


                    ??他說,今年首季,ASML的EUV系統即展現每天曝光350片晶圓的實力。在妥善率方面,三個客戶端的EUV系統都展現連續四周平均妥善率達80%以上的成果。


                    ??至于首季已出貨一臺最新EUV微影系統NXE:3350B,計劃第2季出貨兩臺EUV系統。


                    ??ASML首季也推出深紫外光(DUV)最新型浸潤式機臺NXT:1980,并出貨6臺,且快速將生產力拉升到每天4000片晶圓的水準。這套系統將應用在即將邁入試產的10奈米制程。


                    ??ASML也于本季推出最新一代的整合式量測系統YieldStar 350E,提供晶圓更準確的量測結果來做后續分析。


                    ??ASML昨天公布首季營收13.3億歐元,毛利率42.6%,雙雙超標,本季預期在客戶導入新的浸潤式機臺為10奈米量產做準,且擴增28奈米制程產能,樂觀預期會有強勁成長。


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